研究级明暗场金相显微镜MHML43M

MHML43M是一款面向科研与工业检测的研究级明暗场金相显微镜，采用无限远色差校正光学系统与T型刚性屋盖架构，集成明场、暗场、偏光、DIC微分干涉多种观察模式，搭载编码物镜转换与智能光强记忆功能，成像精度高、拓展性强，可为材料分析、工业制程检测提供完善的成像解决方案。

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产品简介

研究级明暗场金相显微镜MHML43M

光学成像系统

采用无限远色差校正光学系统，标配SWH10X高眼点大视野平场目镜，搭载5X/10X/20X/50X专业无限远半复消色差明暗场金相物镜；可选配全复消色差物镜系列与100X物镜，支持超宽视野观测，成像清晰锐利。

机械结构设计

整机采用T型刚性屋盖架构，抗形变能力强、运行稳定性高；透反两用机架配备低手位粗微同轴调焦机构，粗调行程27mm，微调精度达0.001mm，带有松紧调节、上限位与随机限位装置，可防护样品与物镜。标配3X2双层机械移动平台，移动范围75mm×50mm，支持金属/玻璃载物台板选配，最大兼容样品高度38mm。

照明与光学附件

上下照明均采用10W大功率暖色LED光源，反射照明为柯拉照明设计，配备视场光阑与孔径光阑；透射端配置NA0.9消色差聚光镜，中心可调。标配360°旋转式偏光装置，可消除杂光、提升细节辨识度；可选配DIC微分干涉片，将样品细微高低差转化为高对比度立体浮雕成像。

智能与拓展功能

配备5孔编码型可对中物镜转换器，可与图像分析软件联动，实时同步倍率参数、自动校准测量标尺，避免人为倍率误差。内置智能亮度记忆功能，切换物镜时自动匹配对应光强，降低长时间观测的视觉疲劳。

支持三目摄像输出，标配0.5X可调焦C型摄像接筒，可选配500万-2000万像素相机，兼容4K高清成像、超景深融合、高精度测量、金相分析等多类成像系统，适配多元化检测需求。

MHML43M覆盖材料科研与工业制造多类检测场景，核心应用领域包括：

半导体与PCB检测：依托偏振系统抑制杂光，清晰观测晶圆结构、PCB线路细节，识别制程缺陷；

电子显示检测：通过DIC微分干涉成像，检测LCD导电粒子、面板表面微划痕与微结构特征；

精密零部件检测：观测精密磁盘、五金器件的表面形貌、镀层状态、热处理组织与损伤缺陷；

材料科学研究：支持金属、非金属材料的金相组织分析，适配高校、科研院所的材料学研究工作。

产品参数

型号	MHML43M
	明场/暗场/偏振光/编码/光强记忆
光学系统	无限远色差校正光学系统
目镜	高眼点大视野平场目镜SWH10X23mm（视度可调）
物镜	专业无限远半复消色差明暗场金相物镜5X NA0.15, WD14.35mm
	专业无限远半复消色差明暗场金相物镜10X NA0.30, WD8.5mm
	专业无限远半复消色差明暗场金相物镜20X NA0.45, WD3mm
	专业无限远半复消色差明暗场金相物镜50X NA0.75, WD3.0mm
观察筒	倒像，无限远铰链三目观察筒，瞳距调节范围：50mm～76mm；两档式分光比：100：0，50：50
转换器	5孔编码型明暗场可对中物镜转换器
机架	透反两用机架，低手位粗微同轴调焦机构，粗调行程27mm，微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。带平台位置上下调节机构，最大样品高度38mm
载物台	3X2双层机械移动平台，低手位X、Y方向同轴调节；平台面积210X175mm，工作台面：135X125mm，玻璃台面：101X101mm，移动范围：75mmX50mm可配反射用金属载物台板，透反两用玻璃载物台板
上照明系统	反射灯室，单颗大功率10WLED，暖色，柯拉照明，带视场光阑与孔径光阑，中心可调
下照明系统	自适应宽电压，透射灯室，单颗大功率10WLED，暖色
聚光镜	透射用消色差聚光镜（N.A0.9），带可变孔径光阑，中心可调
偏光装置	起偏镜插板，360°旋转式检偏镜插板
摄像附件	0.5X摄像接筒.C型接口.可调焦
标尺	高精度测微尺，格值0.01mm
选附件	目镜	高眼点大视野平场目镜SWH10X25mm，视度可调，可带测微尺
	干涉片	DIC微分干涉片
	观察头	正像，三目
	物镜	平场半复金相明暗场100X NA0.90 WD1
		平场全复金相明暗场100X NA0.80,WD3.0
		平场全复金相明暗场20X NA0.45,WD8.5
		平场全复金相明暗场50X NA0.80,WD1
		平场全复金相明暗场50X NA0.55,WD8
	载物台	右手位4英寸机械平台，移动行程：105mmX102mm机械平台，X、Y方向同轴调节；可带透射系统挡光板，带玻璃载物台板(选配)
	相机	500万、600万、900万、1200万、2000万等相机
	接口	1X，0.65X